微纳研究与制造中心洁净度测量值2023-08-02.xlsx

100级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m3) S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 106 3530 177 3530 1059 3530 35 3530 353 3 1000级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m ) N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 71 35300 35 35300 71 35300 212 35300 2859 2023-08-02微纳研究与制造中心100级的洁净室洁净度 4000 3530 3530 3530 3530 3530 3500 3000 2500 2000 1500 1059 1000 706 500 353 177 106 35 0 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 N3热 2023-08-02微纳研究与制造中心1000级的洁净室洁净 40000 35300 35300 35300 35300 35300 35000 30000 25000 20000 15000 10000 5000 0 2859 71 35 实测值标准值 71 实测值标准值 212 实测值标准值实测值 141 标准值实测值标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 10000 5000 0 2859 71 35 实测值标准值 71 实测值标准值 212 实测值标准值实测值 141 标准值实测值标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 3530 706 3530 318 3530 S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 35300 141 35300 388 35300 中心100级的洁净室洁净度测试值 30 准值 3530 3530 3530 706 353 实测值 318 标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积造中心1000级的洁净室洁净度测试值 300 准值 35300 35300 35300 2859 388 141 实测值标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放准值 2859 388 141 实测值标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 2023-08-02掩模制版100级的洁净室(Particles/m3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1022817 100000 1624 26500 565 10600 106 3530 1 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02电子束100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1341647 100000 1447 26500 565 10600 177 3530 1 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02光刻显影100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1129035 100000 2577 26500 1730 10600 1059 3530 5 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02光刻区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 864603 100000 71 26500 35 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02基片清洗100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1325444 100000 777 26500 388 10600 353 3530 5 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02热工艺区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1382772 100000 2718 26500 1553 10600 706 3530 3 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02原子层沉积100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1407729 100000 988 26500 706 10600 318 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-02物理沉积1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1336317 1000000 212 265000 141 106000 71 35300 0 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02表征1 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1414965 1000000 71 265000 71 106000 35 35300 0 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02表征2 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1468727 1000000 106 265000 71 106000 71 35300 1 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02干法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1527890 1000000 565 265000 424 106000 212 35300 0 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02划片减薄1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1574627 1000000 7554 265000 4801 106000 2859 35300 12 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02湿法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1574098 1000000 1165 265000 600 106000 141 35300 1 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-02样品存放1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1149474 1000000 3142 265000 2365 106000 388 35300 2 ≥5(um) 标准值 293