微纳研究与制造中心洁净度测量值2023-08-16.xlsx

100级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m3) S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 35 3530 71 3530 35 3530 35 3530 424 3 1000级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m ) N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 635 35300 35 35300 1094 35300 282 35300 1341 2023-08-16微纳研究与制造中心100级的洁净室洁净度 4000 3530 3530 3530 3530 3530 3500 3000 2500 2000 1500 1000 424 500 71 35 35 35 35 0 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 N3热 2023-08-16微纳研究与制造中心1000级的洁净室洁净 40000 35300 35300 35300 35300 35300 35000 30000 25000 20000 15000 10000 5000 635 0 实测值 1094 35 标准值实测值标准值 1341 282 实测值标准值实测值标准值实测值 282 标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 10000 5000 635 0 实测值 1094 35 标准值实测值标准值 1341 282 实测值标准值实测值标准值实测值 282 标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 3530 35 3530 318 3530 S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 35300 282 35300 388 35300 中心100级的洁净室洁净度测试值 30 准值 3530 3530 424 3530 318 35 实测值标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积造中心1000级的洁净室洁净度测试值 300 准值 35300 1341 实测值 35300 388 282 标准值实测值 35300 标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放准值 1341 实测值 388 282 标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 2023-08-16掩模制版100级的洁净室(Particles/m3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 996872 100000 741 26500 247 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16电子束100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1100689 100000 459 26500 247 10600 71 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16光刻显影100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1316196 100000 141 26500 71 10600 35 3530 1 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16光刻区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1044739 100000 141 26500 106 10600 35 3530 1 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16基片清洗100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1119893 100000 988 26500 635 10600 424 3530 6 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16热工艺区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1157805 100000 141 26500 71 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16原子层沉积100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1181562 100000 671 26500 424 10600 318 3530 4 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-16物理沉积1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1226146 1000000 1659 265000 953 106000 635 35300 7 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16表征1 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1635131 1000000 141 265000 106 106000 35 35300 1 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16表征2 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1671243 1000000 2506 265000 1765 106000 1094 35300 8 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16干法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1688717 1000000 530 265000 353 106000 282 35300 4 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16划片减薄1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1719216 1000000 2824 265000 2047 106000 1341 35300 7 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16湿法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1715509 1000000 635 265000 530 106000 282 35300 2 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-16样品存放1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1231088 1000000 3142 265000 2012 106000 388 35300 2 ≥5(um) 标准值 293