微纳研究与制造中心洁净度测量值2023-08-09.xlsx

100级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m3) S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 35 3530 35 3530 35 3530 35 3530 388 3 1000级的洁净室≥0.5um的颗粒(Particles/m ) N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 988 35300 35 35300 318 35300 106 35300 2718 2023-08-09微纳研究与制造中心100级的洁净室洁净度 4000 3530 3530 3530 3530 3530 3500 3000 2500 2000 1500 1000 388 500 35 35 35 106 35 0 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 ≥0.5（um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 S1掩模制版 N1电子束 S2光刻显影 N2光刻区 S3基片清洗 N3热 2023-08-09微纳研究与制造中心1000级的洁净室洁净 40000 35300 35300 35300 35300 35300 35000 30000 25000 20000 15000 10000 5000 2718 988 0 实测值 318 35 标准值实测值标准值 318 106 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 10000 5000 2718 988 实测值 318 35 0 标准值实测值标准值 318 106 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0 N4物理沉积 S5表征1 S6表征2 N5干法刻蚀 S7划片减薄 N6湿 S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 3530 106 3530 71 3530 S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 ≥0.5(um) ≥0.5(um) 标准值实测值标准值实测值标准值 35300 318 35300 459 35300 中心100级的洁净室洁净度测试值 30 准值 3530 3530 3530 388 106 实测值标准值实测值 71 标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S3基片清洗 N3热工艺区 S4原子层沉积造中心1000级的洁净室洁净度测试值 300 准值 35300 35300 35300 2718 459 318 实测值标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放准值 2718 459 318 实测值标准值实测值标准值实测值标准值 ≥0.5(um) ≥0.5(um) ≥0.5(um) S7划片减薄 N6湿法刻蚀 S8样品存放 2023-08-09掩模制版100级的洁净室(Particles/m3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 955253 100000 847 26500 177 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09电子束100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1376982 100000 565 26500 177 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09光刻显影100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1399010 100000 71 26500 35 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09光刻区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1054623 100000 141 26500 71 10600 35 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09基片清洗100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1089287 100000 918 26500 600 10600 388 3530 1 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09热工艺区100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1106020 100000 706 26500 388 10600 106 3530 2 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09原子层沉积100级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1121340 100000 247 26500 106 10600 71 3530 0 ≥5(um) 标准值 29 2023-08-09物理沉积1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1098430 1000000 2895 265000 1447 106000 988 35300 8 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09表征1 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1534138 1000000 282 265000 177 106000 35 35300 0 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09表征2 1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1538939 1000000 1271 265000 988 106000 318 35300 0 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09干法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1611304 1000000 247 265000 141 106000 106 35300 3 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09划片减薄1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1632801 1000000 7907 265000 3812 106000 2718 35300 11 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09湿法刻蚀1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1635167 1000000 11790 265000 2789 106000 318 35300 3 ≥5(um) 标准值 293 2023-08-09样品存放1000级的洁净室(Particles/m 3) ≥0.1（um) ≥0.2(um) ≥0.3(um) ≥0.5(um) ≥5(um) 实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值标准值实测值 1252373 1000000 3212 265000 2153 106000 459 35300 3 ≥5(um) 标准值 293